2 pous 4 pous 6 pous modele safi substrate (PSS) sou ki materyèl GaN se grandi ka itilize pou ekleraj dirije

Kout deskripsyon:

Modele Safi substrate (PSS) se yon mask pou grave sèk sou substra a safi, se mask la grave ak yon modèl pa pwosesis litografi estanda, ak Lè sa a, se safi a grave pa ICP teknoloji grave, ak mask la retire, epi finalman GAN materyèl se grandi sou li, se konsa ke EPITAX. Pwosesis sa a enplike nan plizyè etap tankou kouch fotoresist, ekspoze etap, devlope modèl ekspoze, ICP sèk grave ak netwayaj.

Voye imèl ba nou

Detay Product

Tags pwodwi

Karakteristik prensipal

1. Karakteristik estriktirèl:
Sifas la PSS gen yon kòn lòd oswa modèl triyangilè konik ki gen fòm, gwosè ak distribisyon ka kontwole pa ajiste paramèt yo pwosesis grave.
Estrikti grafik sa yo ede chanje chemen pwopagasyon limyè a epi redwi refleksyon total limyè a, konsa amelyore efikasite nan fè ekstraksyon limyè.

2. Karakteristik materyèl:
PSS itilize bon jan kalite safi kòm materyèl la substra, ki gen karakteristik sa yo nan dite segondè, segondè konduktiviti tèmik, bon estabilite chimik ak transparans optik.
Karakteristik sa yo pèmèt PSS kenbe tèt avè anviwònman piman bouk tankou tanperati ki wo ak presyon pandan y ap kenbe ekselan pèfòmans optik.

3. Pèfòmans optik:
Pa chanje simaye nan miltip nan koòdone ki genyen ant GaN ak safi substrate, PSS fè foton yo ki konplètman reflete andedan kouch GaN gen yon chans yo sove soti nan substra safi.
Karakteristik sa a siyifikativman amelyore efikasite nan ekstraksyon limyè nan ki ap dirije a ak amelyore entansite a lumineux nan ki ap dirije la.

4. Pwosesis Karakteristik:
Pwosesis manifakti PSS la relativman konplèks, ki enplike plizyè etap tankou litografi ak grave, epi li mande ekipman-wo presizyon ak kontwòl pwosesis.
Sepandan, ak avansman nan kontinyèl nan teknoloji ak rediksyon nan depans, se pwosesis la manifakti nan PSS piti piti optimize ak amelyore.

Nwayo avantaj

1.Improve limyè ekstraksyon efikasite: PSS siyifikativman amelyore efikasite nan ekstraksyon limyè nan ki ap dirije pa chanje chemen an pwopagasyon limyè ak diminye refleksyon total.

2. Pwodwi lavi ki ap dirije: PSS ka diminye dansite nan debwatman nan materyèl GAN epitaksyal, kidonk diminye recombination a ki pa radyatif ak ranvèse aktyèl flit nan rejyon an aktif, pwolonje lavi a nan dirije.

3.Improve dirije klète: Akòz amelyorasyon nan efikasite ekstraksyon limyè ak ekstansyon sa a nan lavi ki ap dirije, ki ap dirije entansite a lumineux sou PSS la siyifikativman ranfòse.

4.REDUCE PWODIKSYON PWODIKSYON: Malgre ke pwosesis manifakti PSS se relativman konplèks, li ka amelyore siyifikativman efikasite nan lumineux ak lavi nan ki ap dirije, kidonk diminye depans pwodiksyon nan yon sèten limit ak amelyore compétitivité nan pwodwi an.

Zòn aplikasyon prensipal la

1. Dirije ekleraj: PSS kòm yon materyèl substrate pou bato ki ap dirije, ka siyifikativman amelyore efikasite nan lumineux ak lavi nan ki ap dirije.
Nan jaden an nan ekleraj ki ap dirije, PSS se lajman itilize nan pwodwi ekleraj divès kalite, tankou lanp lari, lanp tab, limyè machin yo ak sou sa.

2. Aparèy -kondiktè: Anplis ekleraj ki ap dirije, PSS kapab tou itilize pou fabrike lòt aparèy semi -conducteurs, tankou detektè limyè, lazer, elatriye. Aparèy sa yo gen yon pakèt domèn aplikasyon nan kominikasyon, medikal, militè ak lòt jaden.

3.OPTOELECTRONIC entegrasyon: pwopriyete yo optik ak estabilite nan PSS fè li youn nan materyèl yo ideyal nan jaden an nan entegrasyon optoelectronic.Nan entegrasyon optoelectronic, PSS ka itilize yo fè onn optik, switch optik ak lòt konpozan reyalize transmisyon an ak pwosesis nan siyal optik.

Paramèt teknik

Sijè	Modele safi substrate (2 ~ 6inch)
Dyamèt	50.8 ± 0.1 mm	100.0 ± 0.2 mm	150.0 ± 0.3 mm
Epesè	430 ± 25μm	650 ± 25μm	1000 ± 25μm
Oryantasyon sifas yo	C-avyon (0001) Off-ang nan direksyon M-aks (10-10) 0.2 ± 0.1 °
	C-avyon (0001) Off-ang nan direksyon A-aks (11-20) 0 ± 0.1 °
Prensipal oryantasyon plat	A-avyon (11-20) ± 1.0 °
Prensipal longè plat	16.0 ± 1.0 mm	30.0 ± 1.0 mm	47.5 ± 2.0 mm
R-avyon	9-o'clock
Devan sifas fini	Modele
Tounen sifas fini	SSP: amann-tè, RA = 0.8-1.2um; DSP: Epi-poli, RA <0.3nm
Mak lazè	Tounen bò
TTV	≤ 8μm	≤ 10μm	≤ 20μm
Ne	≤ 10μm	≤ 15μm	≤25μm
TrUG	≤ 12μm	≤ 20μm	≤ 30μm
Esklizyon kwen	≤2 mm
Spesifikasyon modèl	Estrikti fòm	Dome, kòn, piramid
	Wotè modèl	1.6 ~ 1.8μm
	Dyamèt modèl	2.75 ~ 2.85μm
	Espas modèl	0.1 ~ 0.3μm

XKH konsantre sou devlopman, pwodiksyon ak lavant de modele safi substrate (PSS), epi li angaje nan bay bon jan kalite, pèfòmans-wo pwodwi PSS nan kliyan atravè mond lan. XKH te avanse teknoloji fabrikasyon ak ekip teknik pwofesyonèl, ki ka Customize pwodwi PSS ak espesifikasyon diferan ak estrikti modèl diferan dapre bezwen kliyan. An menm tan an, XKH peye atansyon a bon jan kalite pwodwi ak bon jan kalite sèvis, epi li se angaje nan bay kliyan ak yon seri plen nan sipò teknik ak solisyon yo. Nan jaden an nan PSS, XKH te akimile eksperyans rich ak avantaj, ak sanble pou pi devan pou travay ansanm ak patnè mondyal ansanm ankouraje devlopman inovatè nan ekleraj dirije, aparèy semi -conducteurs ak lòt endistri yo.