Fenèt Safi ki gen Fòm Pèsonalize ak Gwo Dite pou Ekran Smartphone

Deskripsyon kout:

Fenèt safi ki fèt sou mezi yo se konpozan optik pèfòmans segondè ki fèt ak safi monokristalin (α-Al₂O₃) ki gen gwo pite, fabrike atravè machinasyon presizyon pou reyalize jeyometri konplèks ki adapte pou aplikasyon endistriyèl avanse ak elektwonik konsomatè. Lè l sèvi avèk yon chèn pwodiksyon safi konplètman entegre, XKH ofri solisyon Customized ki gen ladan prototip sou demann ak pwodiksyon an ti kantite, ki kouvri dyamèt soti nan 10–500mm, epesè soti nan 0.3–100mm, ak yon pwodiksyon anyèl ki depase 20 milyon moso. Avèk 10 ane ekspètiz nan endistri a, nou bay sèvis konplè ki kouvri optimize konsepsyon, koupe lazè, mikwo-perçage, ak kouch sifas, pou asire konfòmite avèk estanda RoHS/REACH yo. Aplikasyon yo kouvri elektwonik konsomatè, defans, aparèy medikal, ak plis ankò, sa ki pozisyone nou kòm yon lidè nan optik safi pèfòmans segondè.

Voye yon imèl ban nou

Karakteristik

Paramèt teknik yo

Fenèt safi
Dimansyon	8-400mm
Tolerans dimansyonèl	+0/-0.05mm
Kalite sifas (grate ak fouye)	40/20
Presizyon sifas	λ/10 pou chak @ 633nm
Ouvèti klè	>85%, >90%
Tolerans paralelis	±2''-±3''
Bizote	0.1-0.3mm
Kouch	AR/AF/sou demann kliyan

Karakteristik kle nan fenèt safi ki gen fòm pèsonalize

1. Pèfòmans mekanik eksepsyonèl:

Dite Mohs 9, ofri yon rezistans siperyè a reyur konpare ak vè.

Pwen fizyon 2050°C, kenbe entegrite estriktirèl jiska 1900°C nan anviwònman ekstrèm (pa egzanp, siveyans founo).

2. Pwopriyete optik siperyè:

Transparans spectre laj soti nan iltravyolèt (0.15μm) rive nan enfrawouj mwayen (5.5μm), ak transmisyon limyè ki depase 85% nan ranje vizib rive nan enfrawouj tou pre.

Koyefisyan ekspansyon tèmik ultra-ba (5.3 × 10⁻⁷/°C), asire estabilite tèmik anba tanperati ki wo.

3. Rezistans ak dirabilite chimik:

Reziste asid fò, alkali, ak pwodui chimik di, ideyal pou anviwònman endistriyèl agresif.

Rezistans mete 3 fwa pi wo pase vè, amelyore atravè yon nano-kouch pou yon lonjevite pwolonje.

4. Fleksibilite nan konsepsyon:

Sipòte fòm konplèks (pa egzanp, sifas koube, twou avèg, mikwo-twou osi piti ke 50μm) ak presizyon machinasyon ±0.01mm.

Aplikasyon pou Fenèt Safi ki gen Fòm Pèsonalize

1. Elektwonik pou konsomatè:

Ekran safi pou smartphones (pa egzanp, Huawei, modèl prensipal Xiaomi) ak ekran mont, ki konbine rezistans a reyur ak yon bèl aparans.

Lantiy pwoteksyon kamera pou pwoteksyon kont pousyè ak reyur.

2. Defans ak Ayewospasyal:

Dòm enfrawouj misil, ki reziste chòk tanperati ki wo ak ewozyon sab pou gidans presi.

Fenèt pod elektwo-optik pou dron pou kondisyon chan batay difisil.

3. Aparèy Medikal:

Fenèt pwoteksyon pou andoskop, rezistan a likid kòporèl ak sik esterilizasyon.

Optik aparèy terapi lazè, asire transmisyon egzat gwo bout bwa a.

4. Endistri ak Enèji:

Fenèt obsèvasyon chanm grave semi-kondiktè, rezistan a anviwònman koroziv.

Fenèt siveyans founo tanperati ki wo (operasyon kontinyèl 1900°C).

5. Teknoloji Otomobil:

Optik ekspozisyon HUD pou amelyore sekirite nan kondwi.

Fenèt sistèm LiDAR pou machin otonòm, optimize pou rezistans tèmik ak anviwònman.

Avantaj kle nan fenèt safi ki gen fòm pèsonalize

1. Pèfòmans fizik eksepsyonèl

Fenèt safi ki fèt sou mezi yo fèt ak aliminyòm ki gen anpil pite (α-Al₂O₃), epi yo gen yon dite Mohs 9, sa ki ofri yon rezistans kont reyur 3 fwa pi wo pase vè tradisyonèl pou reziste fwotman ak sab, friksyon metal, ak kondisyon ekstrèm. Rezistans yo nan tanperati ki wo (pwen fizyon: 2050°C, tanperati operasyonèl soutni jiska 1900°C) fè yo ideyal pou siveyans founo tanperati ki wo ak pwoteksyon tèmik ayewospasyal. Avèk yon koyefisyan ekspansyon tèmik ki ba (5.3×10⁻⁷/°C), yo kenbe estabilite optik anba estrès tèmik, byen lwen pi wo pase vè kwatz.

2. Fleksibilite nan konsepsyon pou pèsonalizasyon

Fenèt sa yo sipòte konfigirasyon jeyometrik konplèks, tankou sifas koube, twou gradyèl, ak fant avèg, ak yon dyamèt minimòm osi piti ke 50μm ak yon presizyon machinasyon ±0.01mm, epi yo satisfè egzijans strik pou andoskop medikal ak sistèm LiDAR. Sèvis desen-pwodiksyon yo pèmèt kliyan yo soumèt fichye CAD oswa modèl 3D, lè yo itilize koupe lazè CNC ak fanm dyaman pou prototipaj rapid san mwazi, sa ki diminye sik devlopman pwodwi yo plis pase 50%.

3. Adaptabilite plizyè senaryo

Fenèt sa yo, ki kouvri longèdonn iltravyolèt (0.15μm) rive nan enfrawouj mwayen (5.5μm), rive nan yon transmisyon limyè >85%, sa ki fè yo apwopriye pou aplikasyon presizyon tankou deteksyon optoelektwonik ak transmisyon lazè. Inètitid chimik yo (rezistans a asid/alkali fò) ak rezistans radyasyon yo (sètifye ISO 9001) pèmèt deplwaman nan reaktè chimik ak sistèm siveyans plant nikleyè, diminye depans antretyen yo pa >30% konpare ak materyèl konvansyonèl yo.

4. Konsepsyon lejè ak rezistans amelyore

Konpare ak kristal safi an gwo, fenèt sa yo adopte teknik fanm k'ap pile presizyon pou reyalize pwofil ultra-mens (0.3–100mm epesè), diminye pwa a pa 40% konpare ak vè optik tradisyonèl yo. Konbine avèk ranfòsman nanokouch (pa egzanp, kouch kabòn DLC ki sanble ak dyaman), dite sifas la rive nan Mohs 10, amelyore rezistans mete 5 fwa epi pwolonje dire lavi a plis pase 100,000 èdtan pou aplikasyon wo frekans tankou ekran smartphone ak aparèy pòtab.

5. Efikasite Pri ak Dirablite

Lè yo itilize teknoloji kwasans kristal yo (pa egzanp, metòd Czochralski a), itilizasyon matyè premyè a depase 95%, sa ki diminye depans yo de 60% konpare ak min safi natirèl la. Fenèt sa yo, ki resikle atravè fizyon plasma, konfòm ak estanda RoHS/REACH Inyon Ewopeyen an, sipòte objektif ESG antrepriz yo pandan y ap minimize enpak anviwònman an.

Sèvis XKH ak Ekselans Chèn Apwovizyonman

Modèl sèvis konplè nou an entegre bezwen kliyan yo depi nan konsepsyon rive nan livrezon, avèk sipò sistèm ERP pou swivi an tan reyèl. Nou ofri prototipaj 48 èdtan ak pwodiksyon an gwo 15 jou, avèk sipò yon faktori entelijan ekipe ak machin koupe lazè ak sistèm fanm k'ap pile, ki rive nan yon presizyon koupe ±0.005mm ak yon pwosesis mikwo-twou 40% pi rapid. Sèvis ki gen plis valè ajoute yo enkli kouch AR/HR ak mak pèsonalize.