Avètisman ekipman fiks alontèm pou SiC 8 pous

Kounye a, konpayi nou an ka kontinye founi ti kantite waf SiC tip 8 pous N, si ou bezwen echantiyon, tanpri pa ezite kontakte m. Nou gen kèk echantiyon waf ki pare pou anbake.

Avètisman ekipman fiks alontèm pou SiC 8 pous
Avi pou rezèv fiks alontèm SiC 8 pous1

Nan domèn materyèl semi-kondiktè yo, konpayi an fè yon gwo pwogrè nan rechèch ak devlopman kristal SiC gwo gwosè. Lè l sèvi avèk pwòp kristal grenn li yo apre plizyè seri elajisman dyamèt, konpayi an reyisi kiltive kristal SiC 8 pous tip N, sa ki rezoud pwoblèm difisil tankou chan tanperati inegal, fann kristal ak distribisyon matyè premyè faz gaz nan pwosesis kwasans kristal SIC 8 pous yo, epi akselere kwasans kristal SIC gwo gwosè ak teknoloji pwosesis otonòm ak kontwolab la. Sa amelyore anpil compétitivité prensipal konpayi an nan endistri substrat kristal sèl SiC la. An menm tan, konpayi an aktivman ankouraje akimilasyon teknoloji ak pwosesis liy eksperimantal preparasyon substrat carbure Silisyòm gwo gwosè, ranfòse echanj teknik ak kolaborasyon endistriyèl nan domèn amon ak aval, epi kolabore ak kliyan yo pou toujou ap amelyore pèfòmans pwodwi a, epi ansanm ankouraje vitès aplikasyon endistriyèl materyèl carbure Silisyòm yo.

Espesifikasyon DSP SiC 8 pous tip N

Nimewo Atik Inite Pwodiksyon Rechèch Maneken
1. Paramèt
1.1 politip -- 4H 4H 4H
1.2 oryantasyon sifas ° 4±0.5 4±0.5 4±0.5
2. Paramèt elektrik
2.1 dopan -- Azòt tip n Azòt tip n Azòt tip n
2.2 rezistivite ohm ·cm 0.015 ~ 0.025 0.01 ~ 0.03 NA
3. Paramèt mekanik
3.1 dyamèt mm 200±0.2 200±0.2 200±0.2
3.2 epesè μm 500±25 500±25 500±25
3.3 Oryantasyon Notch ° [1- 100]±5 [1- 100]±5 [1- 100]±5
3.4 Pwofondè Notch mm 1~1.5 1~1.5 1~1.5
3.5 Valè lavi a (LTV) μm ≤5 (10mm * 10mm) ≤5 (10mm * 10mm) ≤10 (10mm * 10mm)
3.6 TTV μm ≤10 ≤10 ≤15
3.7 Banza μm -25~25 -45~45 -65~65
3.8 Deformation μm ≤30 ≤50 ≤70
3.9 AFM nm Ra≤0.2 Ra≤0.2 Ra≤0.2
4. Estrikti
4.1 dansite mikwopip chak/cm2 ≤2 ≤10 ≤50
4.2 kontni metal atòm/cm2 ≤1E11 ≤1E11 NA
4.3 TSD chak/cm2 ≤500 ≤1000 NA
4.4 BPD chak/cm2 ≤2000 ≤5000 NA
4.5 TED chak/cm2 ≤7000 ≤10000 NA
5. Kalite pozitif
5.1 devan -- Si Si Si
5.2 fini sifas -- Si-fas CMP Si-fas CMP Si-fas CMP
5.3 patikil gofr/chak ≤100 (gwosè ≥0.3μm) NA NA
5.4 grate gofr/chak ≤5, Longè total ≤200mm NA NA
5.5 Kwen
fant/mak/fant/tach/kontaminasyon
-- Okenn Okenn NA
5.6 Zòn politip yo -- Okenn Zòn ≤10% Zòn ≤30%
5.7 mak devan -- Okenn Okenn Okenn
6. Kalite do a
6.1 fini dèyè -- C-face MP C-face MP C-face MP
6.2 grate mm NA NA NA
6.3 Defo dèyè kwen
ti moso/endisyon
-- Okenn Okenn NA
6.4 Do ki pa lis nm Ra≤5 Ra≤5 Ra≤5
6.5 Make dèyè -- Dant Dant Dant
7. Kwen
7.1 kwen -- Chanfren Chanfren Chanfren
8. Pakè
8.1 anbalaj -- Epi-pare ak vakyòm
anbalaj
Epi-pare ak vakyòm
anbalaj
Epi-pare ak vakyòm
anbalaj
8.2 anbalaj -- Plizyè wafè
anbalaj kasèt
Plizyè wafè
anbalaj kasèt
Plizyè wafè
anbalaj kasèt

Dat piblikasyon: 18 avril 2023