Fenèt optik safi kristal sèl Al₂O₃ ki reziste mete, Customized

Fenèt optik safi kristal sèl Al₂O₃ ki reziste mete, imaj pèsonalize

Deskripsyon kout:

Fenèt optik safi yo, ki fèt ak oksid aliminyòm monokristal sentetik (Al₂O₃), reprezante somè jeni optik la, yo konbine yon dite san parèy, yon rezistans tèmik, ak yon adaptabilite espektral. Fenèt sa yo endispansab nan aplikasyon ki mande yon rezistans ekstrèm ak yon klète optik atravè spectre iltravyolèt (UV), vizib, ak enfrawouj mwayen (MIR). Avèk yon transmisyon ki depase 90% (apre kouch) ak yon dite Mohs 9, yo depase materyèl konvansyonèl tankou silika fonn ak kwats nan anviwònman difisil.

Voye yon imèl ban nou

Karakteristik

Espesifikasyon teknik

Paramèt	Espesifikasyon
Materyèl	Safi sentetik ki gen gwo pite (Al₂O₃), <5 ppm enpurte
Ranje dyamèt	1–300 mm (gwosè pèsonalize disponib)
Tolerans epesè	±0.05 mm (estanda), ±0.01 mm (klas presizyon)
Kalite sifas	20/10 pou rive 60/40 fouyman grate (MIL-O-13830A)
Platite	λ/4 @ 633 nm (estanda), λ/8 @ 10.6 μm (klas lazè)
Ouvèti klè	>90% nan dyamèt la
Opsyon kouch	Filtè anti-refleksyon bande laj (200–4000 nm), DLC, filtè pasaj bann
Tanperati Operasyon	-200°C rive 2053°C (pwen fizyon)

Avantaj prensipal yo

1. 1. Defans ak Ayewospasyal
  · Veyikil ipèsonik: Reziste chòk tèmik pandan y ap rantre nan atmosfè a, epi kenbe entegrite optik li nan 2000°C.
  · Imaj satelit: Deplwaye nan sistèm obsèvasyon Latè ki gen gwo rezolisyon (pa egzanp, detèktè ipèspektral).
  
  2. Endistri ak Enèji
  
  · Chanm Plasma: Reziste ewozyon nan grave semi-kondiktè (CVD amelyore pa plasma) ak reaktè fizyon.
  
  · Eksplorasyon idrokarbon: Kontwole entegrite tiyo yo atravè fenèt ki gen gwo presyon e ki reziste korozyon.
  
  3. Rechèch syantifik
  
  · Radyasyon Senkrotron: Minimize absòpsyon reyon X (<5 ppm enpurte) nan liy gwo bout bwa yo.
  
  · Kalkil kwantik: Pèmèt transmisyon foton ki gen ti pèt nan sistèm kriyojenik yo.
  
  4. Inovasyon Komèsyal
  
  · Veyikil otonòm: Fenèt LiDAR ak kouch DLC pou rezistans kont bwouya ak reyur.
  
  · Aparèy pòtab: Lantiy safi ultra-mens (<1 mm) pou ekspozisyon reyalite ogmante.

Solisyon pèsonalize XKH

Platfòm konplè nou an bay konpozan optik safi pèsonalize:

1. Konsepsyon ak Prototipaj

· Entegrasyon CAD: Konvèti fichye STEP/IGES an prototip fonksyonèl nan 5 jou ouvrab.
· Optimizasyon DFM: Redui risk pwodiksyon yo atravè analiz estrès ak similasyon tolerans.

2. Fabrikasyon Presizyon

· Metroloji: Entèferometri chanjman faz 4D pou presizyon sifas λ/50.
· Sistèm Kouch: Pil AR/DLC milti-kouch ki branche pou longèdonn espesifik (pa egzanp, 1550 nm telekominikasyon).

3. Asirans Kalite

· Trasaj Materyèl: Dokimantasyon konplè depi kwasans boul la rive nan enspeksyon final la.
· Tès Anviwònman: Espre sèl (MIL-STD-810G), siklaj tèmik (-196°C a 800°C), ak rezistans vibrasyon.

4. Sèvis ki ajoute valè

· Kontwòl ESD: Pèsonalizasyon rezistivite sifas (10⁶–10⁹ Ω) pou elektwonik sansib.
· Solisyon vakyòm: Bor metalize ak soudaj ermetik pou sistèm UHV.

Poukisa chwazi fenèt optik safi?

1. Lonjevite: 15 ane lavi operasyonèl nan aplikasyon espasyal.

2. Efikasite Pri: 30% pi ba pri materyèl atravè kwasans kristal optimize.

3. Dirablite: Resiklab epi konfòm ak RoHS/REACH.

Konklizyon

Fenèt optik safi yo redefini pèfòmans referans nan optoelektwonik, defans, ak sistèm endistriyèl yo lè yo konbine pwogrè syans materyèl ak inovasyon jeni presizyon. Lè yo itilize pwopriyete intrinsèk safi sentetik la—tankou dite Mohs 9, estabilite tèmik jiska 2053°C, ak transmisyon spectre laj (200nm–6μm)—fenèt sa yo depase limit konvansyonèl yo, sa ki pèmèt aplikasyon transfòmatè nan teknoloji pwochen jenerasyon an. Pa egzanp, kapasite yo pou reziste chòk tèmik ipèsonik (>1000°C) fè yo endispansab nan sistèm defans ayewospasyal yo, pandan ke konsepsyon birefringans ultra ba asire presizyon nan informatique kwantik ak deteksyon vag gravitasyonèl.

Entègrasyon teknik fabrikasyon avanse, tankou tournage dyaman ak pulverizasyon ak gwo bout bwa iyon, pèmèt solisyon pèsonalize pou demand espesifik, tankou fenèt espiral ki konpatib ak vakyòm pou reaktè fizyon oswa sifas ki gen yon sifas ki pa twò grav (sub-100nm) pou litografi EUV. Anplis de sa, kouch milti-kouch propriétaires nou yo—tankou fim anti-reflèktif amelyore ak DLC—reyalize yon transmisyon >99% nan longèdonn kritik (pa egzanp, telekominikasyon 1550nm), sa ki depase materyèl tradisyonèl yo pa 30% nan papòt domaj ki pwovoke pa lazè.

Pandan endistri yo ap vire nan direksyon miniaturizasyon ak fyab nan anviwònman ekstrèm, fenèt optik safi yo esansyèl nan machin otonòm (rezistans kont bwouya LiDAR), robotik medikal (andoskop esterilizab nan otoklav), ak eksplorasyon espas (chaj satelit ki ranfòse pa radyasyon). Lè nou aliyen inovasyon materyèl ak pèsonalizasyon santre sou kliyan, nou bay lidè mondyal yo pouvwa pou simonte baryè teknik yo epi fòme avni fotonik la. Angajman sa a anvè ekselans simante fenèt optik safi kòm fondasyon optik pèfòmans segondè, k ap kondwi avansman nan dirabilite, miniaturizasyon, ak lonjevite sistèm nan aplikasyon ki pi mande demen yo.